その他装置
マイクロ波合成装置 Monowave360（アントンパール・ジャパン）
マイクロウェーブを発生させ、そのエネルギー特性を利用して化学反応の促進等に用いる装置です。
比表面積細孔分布測定装置 NOVA2200（カンタクローム）
ガス圧力を変化させ、ガス分子がサンプル固体表面に吸着される量を測定することで、平均細孔径、比表面積、全細孔容積等を求める装置です。
水銀圧入計（カンタクローム）
粉体の細孔に圧力をかけて水銀を浸入させ、圧力と圧入された水銀量から細孔径や比表面積を求める装置です。ガス吸着法より細孔径が大きいサンプルに使用します。
核磁気共鳴装置NMR JNM-EX400（日本電子）
原子核を磁場の中に入れて核スピンの共鳴現象を観測することで、物質の分子構造を原子レベルで解析する装置です。
最大動作圧力：30bar
IR最大温度：300℃
光ファイバー最大温度：300℃
最大電力：850W
比表面積：0.01~2000m2/g以上
前処理（加熱真空）：450℃まで可能
細孔径：0.35~200 nm
※それ以上の場合は水銀圧入法等をご検討ください。
カールフィッシャー水分計 756/3（メトロームジャパン）
サンプル中の微量水分をμg単位で、高精度、短時間で測定できる装置です。
遠心分離機 5922（久保田商事）
最高回転数：15,000rpm
最大遠心力：21,040×g
最大処理量：2000ml（500ml×4本）
温度設定：-20℃〜＋40℃
質量分析計TOF-MS autoflexⅢ（ブルカーダト二クス）
レーザー光でイオン化した試料を真空管内で飛行させ、検出部への到達時間から質量を測定する装置です。
光源：低圧水銀ランプ
紫外線強度：3.7mW/cm2（UVランプ1本あたり）
UVオゾンクリーナー UV253 （フィルジェン）
ITO基板（有機EL）に付着している有機汚染物質を、光化学的酸化分解プロセスによって除去できる装置です。
照射距離：100mm
有効照射径：φ50
照度：600,000Lx
UV強度：67mW/cm2
照度均一度：70%
UV照射機 SX-UI 501HQ （ウシオ電機）
高圧UVランプを使用し、UV硬化型インキ・塗料・接着剤の硬化などに用いる装置です。
出力：550W
超音波ホモジナイザー XL2020（misonix）
超音波で液中に衝撃を発生させる装置です。DNA抽出や蛋白質抽出の前処理や化学反応、乳化処理、ナノマテリアルの分散処理などに使用されます。
グローブボックス
きわめて毒性の強い物質などの作業用として、グローブを介して作業を可能にする装置です。
使用温度範囲：100℃〜1150℃（常用最高温度1100℃）
温度調節精度：±1.5℃（at 1150℃）
温度分布精度：±1.0℃（at 1000℃）
炉内寸法（有効寸法）：W150×D250×H110mm
電気マッフル炉 FUW220PA（東洋製作所）
試料の乾燥や焼成に使用する装置です。定値運転、プログラム運転、タイマー運転にも対応しています。
RFスパッタ SVC-700RF（サンユー電子）
加速させた高エネルギーの原子やイオンをターゲット表面に衝突させ、基板上に成膜する装置です。金属薄膜はもとより、絶縁膜や酸化物薄膜を成膜可能です。
スパッタカソード：水冷式マグネトロン
スパッタ方向：ダウン
ガス：アルゴンガス、酸素ガス
基板サイズ：最大φ50mm
基板温度：室温〜最大600℃
全自動元素分析装置 MICRO CORDER JM10
（ジェイ・サイエンス・ラボ）
有機微量元素分析装置で、パソコン制御による炭素・水素・窒素３元素を同時に定量することが可能です。
測定精度：±0.3%以内（CHN分析）、±0.5%以内（S分析）
測定分子量：500以上
測定濃度：10pmol/μL~100pmol/μL
溶媒：水または揮発性の高い有機溶媒（THF, エタノール等）
滴定方式：電量滴定方式
測定モード：KFT, KFT-B, BLANK, GLP
滴定スピード：最大2.2mg/min
滴定フラスコ容量：70~200mL
推奨測定範囲：10μg~100mg
分解能：0.1