伊田研究室・津川樹さんが第16回酸化グラフェンシンポジウムで「最優秀ポスター賞」を受賞しました！
～津川さんによる受賞内容の説明～
酸化グラフェンとは、主に炭素原子と酸素原子から構成される横幅数μm、厚さ約１nmの極薄の2次元材料です。酸化グラフェンは、表面に多種多様な酸素官能基と欠陥構造を有しており、様々な特性を示すため、世界中で盛んに研究されている材料の１つでもあります。しかしながら、酸化グラフェン特有の不規則な構造は、材料設計やメカニズムの探索が困難になる原因でもありました。そこで本研究では、上記の欠点を克服する新しい酸化グラフェンの開発を目標に実験を行い、単一の酸素官能基(エポキシ基)を有し、かつ構造欠陥をほとんどもたない酸化グラフェンを合成することに成功しました。本発表では、合成した酸化グラフェンの構造評価を行い、従来の酸化グラフェンに比べ、構造規則性が極めて高いことを報告し、本賞を受賞しました。今後は、特定の官能基にのみ反応する有機分子を用いた化学修飾や、選択的なイオン分離、グラフェンへの還元など様々な分野への応用を目指した研究を展開したいと考えています。
